等离子发生器能喷涂高质量薄膜

2016年11月29日文章来源：科技日报

　　俄罗斯莫斯科工程物理学院（NRNUMEPhI）的科学家在《表面与涂层技术》杂志上发表的文章中称，他们研制出能在熔融材料的蒸汽中产生强电流脉冲磁控放电的等离子发生器。新技术能更快地喷涂出高质量的薄膜。

　　磁控溅射是对使用节能涂层材料的建筑物玻璃进行沉淀的唯一方法，可将能显著提高性能的硬涂层喷射到切割工具上。在微电子学中，这种办法被用于集成电路板的金属化；在光学中，可用来生产滤光器；也可用来生产疏水涂层。新研制的等离子发生器由等离子接头和电源组成，在特殊的磁控放电模式下工作，在这些模式下能发挥熔融材料的强烈蒸汽作用，以此形成涂料。

　　该校等离子物理教研室研究员亚历山大·杜马尔金说：“在零件上的薄膜慢速增长与真空蒸发，长期以来一直都是磁控溅射技术的难题。新技术成功地将两种技术的优点合二为一。我们已经学会在保证质量情况下的高速溅射。”

　　莫斯科工程物理学院等离子物理教研室的科学研究员安德烈·卡奇耶夫说：“设备的工业样品和用于生产高质量单独涂层的模块一样。我们的潜在客户是生产节能窗、现代能源组件以及各型材机械制造的企业。”

　　在全球，磁控溅射法占了生产适用于电子、机械、建筑和其他领域的金属及介电涂层市场的很大一部分份额。该方法是对被加工的零件涂上借助等离子、通过特别靶标喷出的材料。目前，磁控溅射镀膜是在高技术领域中生产薄膜最常见的方式。

　　（本栏目稿件来源：“卫星”新闻通讯社）